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光掩模：**光掩模（Photomask）**：光掩模是一种在半导体制造过程中广泛使用的精密工具，也被称为光罩或掩模版。它通常由透明和不透明的图形组合而成，这些图形精确对应着半导体芯片上所需电路的布局和形状。在制造过程中，光掩模通过光刻技术将电路图案转移到硅片上，是实现芯片微型化和复杂化的关键步骤之一。光掩模的制作精度极高，任何微小的缺陷都可能导致整个芯片制造过程的失败，因此其质量和技术水平对半导体产业的发展具有重要影响。 **股票**：股票是股份公司发行的所有权凭证，代表股东对公司所有权的一部分。股票可在股票市场自由买卖，其价格受公司业绩、市场环境等多重因素影响。股票投资具有风险性，投资者需关注市场动态、分析公司基本面，以获取投资回报。