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光刻机产业链动态:

1、11月7日上海微电子公布光刻机领域新专利信息

2、9月5日路透社爆料我国将推出总规模3000亿元的集成电路大基金三期项目。

3、有消息称，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。

2023年6月30日上海微电子申请光刻投影物镜及光刻机的专利

题材基本面介绍：

随着半导体产业不断迭代，其加工工艺亦面临重重挑战。而在芯片生产过程中最大的挑战之一，即是光刻工艺，其决定了芯片晶体管尺寸的大小，从而直接影响芯片性能和功耗。作为光刻技术的关键设备，光刻机单台价值量高达上亿美元，其购置成本达到半导体设备总投资的20%以上，是芯片制造前道工艺七大设备之首

一、光刻机工艺

二、组成成分

三、发展趋势

四、国内现状

中国大陆光刻机市场空间广阔，但主要依赖荷兰、日本等地进口。根据中国海关总署数据，2022年中国大陆IC用光刻机进口金额共39.7亿美元，其中从荷兰、日本的进口金额分别为25.5/13.0亿美元，进口机台数分别为147台、635台，对应进口均价分别为1733、204万美元，高端机台主要从荷兰ASML进口。

中国大陆是ASML第三大客户。2022年ASML对中国大陆总销售额31.4亿美元（含设备、服务等），其中设备收入23.3亿美元，占14%，仅次于中国台湾和韩国。

制裁情况优于此前预期，行业燃眉之急暂缓。2023年初美日荷三国领导人会晤，计划联合制裁。随后日本管制条例于7月23日正式实施，Nikon的高端DUV受限。3月8日荷兰政府公告拟对华限制出口“最先进”的DUV光刻设备， 6月30日正式出台管制措施，并定于9月1日正式落地。此前预期ASML NXT:2000i及之后的浸没式机台将无法出货。但ASML最新确认，公司可在2023年底前向中国大陆客户出口包括2000i及更先进型号的浸没式DUV。延长了出货时间，且先进机台的套刻精度、产率都有明显提升。

 EUV长期被限，2024年高端浸没式也将断供。尽管危机暂缓，但并未完全解除，我国光刻机仍受制于人，仍是“卡脖子”最关键环节，从国家安全考虑，实现高端光刻机的国产替代至关重要。

国家牵头，科研院所、关键公司参与，供应链自主可控。光刻机作为高壁垒、重资本、高风险的行业，其发展必将借助“举国体制”之力，重点关注上海微电子和几大院所的研究进展，以及其控股/参股的资产，或有光刻机成果注入的预期。