1、HEPS概念：板块介绍

高能同步辐射光源（High Energy Photon Source，HEPS）是国家重大科技基础设施建设“十三五”规划确定建设的十个重大科技基础设施之一，是基础科学和工程科学等领域原创性、突破性创新研究的重要支撑平台。

HEPS是一台电子能量为6GeV，发射度小于等于0.06nm×rad的高性能高能同步辐射光源，主要由加速器、光束线和实验站组成，经过初步设计研究阶段的优化设计与采用最新技术，包括在高能同步辐射光源验证装置（HEPS-TF）中已经获得突破的关键技术，HEPS既具有国际先进性，也适合中国国情，主要性能指标位居世界前列，具有世界最高光谱亮度，高于目前世界上现有和正在或即将建设的光源，并且还有进一步提高的空间。

HEPS作为第四代同步辐射光源，将是中国拥有的第一台高能量同步辐射光源。高能同步辐射光源可以为我国开展与国家经济社会发展以及工业创新密切相关的战略性领域和方向的突破性科技创新提供强有力的支撑，同时为在众多基础科学的前沿开展更灵敏、更精细、更快、更复杂和更接近实际工作环境的科学研究提供适应调控时代要求的前所未有的实验平台，支撑科学研究更精细地以空间、时间、能量三个维度，从分子、原子、电子、自旋的水平认识物质（包括生命物质和非生命物质），进而实现多层次、多尺度的物质调控，为国家解决在资源、能源、环境、人口和健康诸多领域面临的日益严峻的挑战提供科学基础。

1，同步辐射光源目前已经在建的是第四代。

2，四代同步辐射光源的特点是: -占地小(当然还是很大的，足球场);

-输入能量大为减少;

-输出光源亮度更大(四代完全达到光刻需求);

-频率可以精准控制，可以只输出13.5纳米的EUV(这一点以前是不行的，以前频谱是连续的);

可以连续稳定工作(二代已经每天15小时，每年5000小时)。

3，EUV从同步辐射光源出来就是高度平行光，连光路可以省去，直接掩膜曝光。

4，DUV对光刻胶挑肥拣瘦，十分敏感;但EUV可以固化一切遇到的光刻胶，不挑食。

5，我国建造一座三代同步辐射光源的投入是12亿元;一台阿斯麦 EUV光刻机是一亿美元，7亿人民币。